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光学和光学仪器环境试验方法污染测试

文章出处: 责任编辑:真空干燥箱厂家 发表时间:2015-03-30
1、主题内容与适用范围
本标准规定了污染试验的试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。
本标准中所指的"污染"的含义是腐蚀性化学物质1) (以下称试剂〉同光学仪器的接触。
本标准适用于光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。
本标准不适用于作为正常的生产控制。
注:不包括放射性元素和同位素及危险性化学物质如2.2 二氯二乙硫酶。
2、试验目的
研究仪器,尤其是仪器的表面、涂层或合成材料短时间内暴露在试剂中的抵抗能力。
试验通常只用于在使用期有可能遭受污染的仪器选择材料或元件时参考。
3、试验条件
试验应在GB 12085.1 规定的大气环境条件下进行。
3.1试样
除有关标准要求整台仪器或部件试验外,试验应采用代表性样品作试样。非金属涂层试验的基片用代表性材料按图1 所示制作。待试涂层的结构应与仪器或仪器的部件用的涂层的结构相同。试样施加涂层前的表面应与所代表的仪器或部件的表面用同样的方法制备,涂层应完全地覆盖住试样的表面,涂层的厚度应与仪器或部件的涂层的厚度相同〈偏差不超过5m) ,试样的标记应在施加涂层前制作好。制备好的试样必须防止污染,直到试验开始。
4.2 试验垫片
按下述要求制备垫片,并在试剂中浸湿作为试验介质使用z
颜色.白
密度:0.25-0.30
pH 值:5-8〈用附录A 的方法测定〉
厚度:1mm
直径:9mm
每块毛毡只能使用一次。
使用腐蚀性试剂(如高浓度的酸或酸挥发出来的腐蚀性气体试验时,应在放置法码前用夹膜将垫片覆盖起来,以防止试剂腐蚀法码.
5、条件试验
条件试验方法所列的试剂在该项试验中都应使用。试验的暴露时间从浸湿的垫片放到试样上起开始计算。
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